1958年，美国德州仪器公司展示第一块集成电路板，世界进入集成电路时代。60多年来，集成电路飞速发展，已经广泛应用于工业、农业、航空航天、国防、军事等领域，甚至进入每一个家庭。

硅片，是制作集成电路的重要材料，对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成各种半导体。半导体行业快速发展，拉动硅片需求增长，对硅片质量提出更高的要求，尤其对硅抛光片的表面质量要求。

集成电路

半导体元器件生产中，须对硅片进行严格清洗，清除表面的污染杂质，防止微量污染导致元器件失效。硅片清洗设备在生产过程中会在表面产生颗粒和金属杂质污染，会严重影响元器件的质量和成品率，为清除这些污染，需要使用超声波和酸碱溶液以及超纯水对硅片进行清洗，其工艺流程为：超声波清洗→碱洗→超声波清洗→漂洗→酸洗→漂洗→超声波清洗→烘干。

超声波硅片清洗设备

硅片清洗后的废水含有高硬度的硅片残渣以及酸碱溶液，要求设备管道和阀门耐磨损、耐冲刷、耐腐蚀。

润景陶瓷硬密封球阀的阀芯与阀座采用氧化铝或碳化硅材料，经1680℃或2200℃超高温烧结、精密加工而成，洛氏硬度HRA≥85，可用于盐酸、硫酸、氢氧化钠、海水、工业废水等多种酸、碱及特殊介质输送，具有突出的耐磨损和耐腐蚀性能，能够很好地满足硅片清洗设备的使用要求。

天津某公司硅片清洗设备

张家港某公司硅片清洗设备